盡管在半導體的制程升級上的困難和阻力越來越大，Intel憑借其強大的技術實力，仍在努力推進半導體工藝的深發展，推動摩爾定律。眼下英特爾的14nm才剛剛開始登場，但是對于更高級的7nm的研究卻早已開始。Intel院士Mark Bohr表示：“我的日常工作就是研究7nm。我相信，沒有EUV也能做到�！� EUV就是極紫外光刻。這十幾年來，半導體工藝雖然在不斷進步，但是核心光刻技術一直沒有實質性的突破，還是老一套，EUV就是眾望所歸的下一站，但其難度之大就連Intel也是異常吃力，結果一拖再拖，至今遙遙無期。Intel認為，EUV技術已經來不及用于10nm，甚至7nm上都很難說，盡管很多人對此抱著很大的期望。Bohr進一步解釋說：“我對EUV非常感興趣，真的能幫助工藝進步，部分時候還能將三四個遮罩縮減為一個，但不幸的是，它還沒有做好準備，產能和可靠性還不夠。”Bohr沒有透露如何在沒有EUV的情況下實現10nm、7nm，不過他指出Intel 14nm在一個或多個關鍵層上使用了新的三重曝光技術。他還表示，2015年底的時候，Intel會安排部分代工客戶體驗嘗鮮一下10nm，這也暗示新工藝產品將無法按原計劃推出，得等到2016年了。如此樂觀估計，7nm至少得2018年。
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